紫外-可視-近紅外光光譜儀 - 管理辦法
壹、儀器設備 (有3台)
一、規格型號：
（一）UV Hitachi U-4100
1. 分光器：向差補正式稜鏡－劃柵雙分光器
(a)預分光器：Littrow Type稜鏡分光器
(b)主分光器：繞射格子光柵分光器（2繞射光柵）Czerny-Turner Mount
2. 波長範圍：240 to 2600 nm。
3. 檢知器：光電倍增管（UV/Vis）、恆溫冷卻式Pbs（NIR），60mm直徑積分球硫酸鋇鍍膜。
4. 樣品室：內部尺寸480W×470D×200H mm（Standard type）；680W×470D×300H mm（Large type ）
5. 波長最小刻劃：0.01 nm。
6. 光譜帶寬之選擇與顯示UV/Nis：固定式或自動選擇。
7. 波長精確度：NIR/Vis：±0.2nm；NIR：±1.0nm；附自動波長校正功能。
8. 波長掃瞄速度：0.3（0.75）、3（7.5）、15（37.5）、30（75）、60（150）、 120（300）、300（750）、600（1500）、1200（3000）、2400（6000）nm/min。（）內之值為在NIR區。
9. 燈源改變範圍：325至370可自動選擇。
10. 測光系統：雙光束直接比率測光系統（日立公司唯一採用之Feedback系統）。UV/Vis：負電壓及自動轉換 ； Slit NIR：自動轉換Slit及固定式Slit。
11. 測光型式：吸光度（ABS）、穿透率（％T）、反射率（％R），Energy on reference side 【E(R)】/sample side【E(S)】。附件：1.玻璃樣品專用治具。 2.液態樣品專用治具。
（二）Agilent 8453 UV-Visible Diode Array Spectrophotometer
1. 光束系統：開放式單光束源。
2. 光學系統：Photo Diode Array。
3. 光源：雙燈源 (Tungsten and Deuterium Lamp)。
4. 樣品室：開放式無蓋。
5. 波長範圍：190 to 1100 nm。
6. 狹縫波長寬度：< 1 nm。
7. EP測試標準：>1.6 (Toluene in hexane, ration abs. At 269 nm/266 nm。
8. Stray 光：< 0.03% . At 340 nm。
9. 波長準確度：< ±0.5nm，0.5 Second Scan（NIST 2034）< ±0.2nm，at 486.0 & 656.1 nm。
10. 波長重覆性：< ±0.02nm，ten consecutive scans（NIST2034）。
11. 全波長掃瞄時間：0.1秒。
12. 基線平移：< 0.001 A。
13. 光列穩定度：< 0.001 A/h。
14. 光列雜訊：< 0.0002 A, Sixty 0.5 second scan at 0 A, 500 nm。
15. 操作溫度：0℃ - 50℃。
16. 操作軟體：採用LAN網路聯線控制光譜儀所有的參數。
17. Kinetics操作：Bio-chemical Analysis 及Multi-cell控制功能。
18. 光譜儀尺寸：> 200*360*580mm(高*寬*深)。
（三）Jasco V-650
1. 光學系統：Double beam, single monochromator
2. 光源：雙光源 (Deuterium lamp：190~350 nm；Halogen lamp：330~350 nm)
3. 光源轉換波長：使用者可選擇330~350 nm範圍
4. 偵測器：Photomultiplier tube
5. 波長範圍：190~900 nm
6. 波長準確度：±0.2 nm (光譜帶寬 0.5 nm；波長 656.1 nm；常溫)
7. 波長重複性：±0.05 nm
8. 光譜帶寬：0.1, 0.2, 0.5, 1, 2, 5, 10 nm；L2, L5, L10 nm (low stray-light mode)；M1, M2 nm (micro-cell mode)
9. 線性範圍：0~10000 %T；-2~4 Abs
10. 吸光度準確性：±0.002 Abs (0~0.5 Abs)；±0.003 Abs (0.5~1 Abs)；±0.3 %T (NIST SRM 930D)
11. 吸光度重複性：±0.001 Abs (0~0.5 Abs)；±0.001 Abs (0.5~1 Abs)
12. 雜散光：1 % (198 nm KCl 12 g/L aqueous solution) 0.005 % (220 nm NaI 10 g/L aqueous solution；340 nm & 370 nm
NaNO2 50 g/L aqueous solution)
13. 基線穩定度：±0.0003 Abs/hr
14. 基線平整度：±0.0003 Abs
15. 雜訊值：0.00003 Abs (0 Abs；波長：500 nm；測量時間：60 sec；譜寬：2 nm)
16. 光譜儀尺寸：460L×602W×270H mm
貳、預約辦法：
預約請洽儀器管理者：楊睿承同學 02-33665070；ray900110@gmail.com
儀器放置地點：台灣大學高分子科學與工程學研究所地下室102室
若您需要預約使用儀器，請以電話或E-mail預約，謝謝。
參、操作辦法：
（1） 若實驗室未有操作合格者，請派一位同學與儀器管理者學習操作流程，並取得合格操作資格。
（2） 凡操作者須經由儀器管理者認定核可，取得操作資格，得以自行上機操作。
（3） 未有操作資格者，須由各實驗室已取得合格操作者陪同操作，經上機練習5時段（每時段約2小時）後，與儀器管理者申請操作資格，經核可取得操作資格，得以自行上機操作。
肆、計費方式
（1） 高分子所成員：150 元/ hr
（2） 校內其他單位：550 元/ hr
（3） 校外委託代測：735 元/ hr
（如需操作人員代為操作，每小時服務費另收：210 元。）
伍、使用資格
高分子所教授所指導的學生，經訓練與檢定考試通過之後，才能夠自行操作儀器。
操作辦法：
（1）若實驗室未有操作合格者，請派ㄧ位同學與儀器管理者學習操作流程，並取得合格操作資格。
（2） 凡操作者須經由儀器管理者認定核可，取得操作資格，得以自行上機操作
（3）未有操作資格者，須由各實驗室已取得合格操作者陪同操作，經上機練習， 與儀器管理者申請操作資格，經核可取得操作資格，得以自行上機操作。
